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       PVD法可在較低的溫度下制備具有優異的性能的薄膜，而且所用的原料為固體，可制備金屬，化合物的薄膜。PVD法有正空蒸鍍，濺射成膜等等方法。玻璃瓶生產廠家把所謂真空蒸鍍在10-2Pa以下的真空中加熱固體物質使之蒸發并在基板上付著成膜，這是最基本的PVD法。徐州玻璃瓶廠把薄膜的形成的過程為蒸鍍原料在蒸發源被加熱，蒸鍍原料的分子或原子向機板處飛行，分子或原子附著于潔凈基板上并形成薄膜。
     由于蒸發物不同在蒸發源處的溫度及真空度有所不同，玻璃瓶廠一般以物質蒸汽壓為1Pa時加熱的溫度為參考點而真空度選擇10-3Pa以下。分子或原子在到達基板前的飛行中最好不與殘留的氣體分子發生碰撞，從而可以保持蒸鍍前其所具有的能量。玻璃瓶生產廠家在溫度T時做熱運動的分子與其它分子不發生碰撞前進的距離為平均自由程，一般使蒸鍍的分子或原子與殘留氣體分子不發生碰撞的真空度應在10-2Pa以下。實際蒸鍍中除了蒸發的原子或分子入射并附著與基板上，這種氣體分子入射附著基板上的頻率，玻璃瓶廠由此要制備不含或含量甚微殘留氣體為雜質的薄膜，蒸鍍的真空應低一些好，實用的應在10-3Pa一以下。我們要求純度高的薄膜應在10-7Pa以下，其中為蒸鍍發源，與蒸發面積S相比，其開口面積S非常小，由此損失的分子若可以忽略的話，可以認為爐內的蒸汽壓平衡。此時玻璃瓶生產廠家由開口處噴出的分子數僅受爐內溫度影響，這一溫度高低即可控制分子向外飛散的強度。